扫描电子显微术

以能量为1～30 keV的电子束作为微束激发源（又称一次束），以光栅状扫描方式照射到被分析试样的表面上，分析入射电子和试样表面物质的相互作用所产生的各种信息，从而研究试样表面微区形貌、成分和结晶学性质的技术。主要设备为扫描电镜，常用的成像信息分别来自二次电子和背反射电子像。前者适用于试样表面几何形貌观察，且图像的分辨率最好。后者适用于不同相组织的鉴定和观察，可进行相分析。结晶学信息取自散射电子，得到的扫描电子像有电子通道花样和电子通道显微像两种；成分信息、来自元素的特征X射线，有X射线能谱分析法，X射线波谱分析法和X射线荧光分析法三种，它们的控测极限依次为750 × 10-6、 100 × 10-6和10 × 10-6等。扫描电子显微术的特点是可以直接观察任何原始试样的表面，但非导体试样要在其表面上镀一层导电层或采用低的加速电压（如1～3 keV)，也可以采用低真空（如l～270 Pa）观察条件，以克服试样表面充电效应。分析区域的尺寸范围可以大到150 mm，图像分辨率最高可达0.6 mm。