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磁控溅射

磁控溅射 -简介

磁控溅射是为了在低气压下进行告诉溅射,必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法。

 
磁控溅射-参考资料   
[1] http://www.mikrouna.com/web/cikongjiashexitong.htm

[2] http://www.opticsky.cn/simple/t11274_1.html
[3] http://define.cnki.net/WebForms/WebDefines.aspx?searchword=%u78C1%u63A7%u6E85%u5C04

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