工业版权

对主要产生于工业领域的创造性作品所享有的专有权利。 这一概念正式产生于1968年的英 国，后为许多国家所采用。客体包 括：（1）工业品外观设计。《保护工业产权巴黎公约》的斯德哥尔摩修订文本中规定，各成员国可以在国内立法 中对外观设计分别或有选择地给予版权保护或专利权保护。目前大多数国家包括中国都只将外观设计视为专利权的保护范围，而非版权的客体。（2）计算机软件，包括计算机程序及其有关文档。1972年菲律宾版权法第一次把计算机程序列入艺术作品中。其后，美、匈、澳大利亚、印度、日、法、英、德、智利、新加坡等国先后把计算机程序或计算机软件列为版权法的保护范围。韩国则将其作为工业版权加以保护。我国于1991年颁布了专门的《计算机软件保护条例》。（3）半导体芯片。1984年美国最先通过了《半导体芯片保护法》，其后日本及欧共体的一些国家也相继通过了类似的法律。各国的保护对象均为半导体芯片上的掩膜作品。掩膜作品获得工业版权保护的条件有两个：一为必须具有独创性；二为设计上必须具有先进性。目前半导体芯片的国际保护还不太普遍。